История создания ЦКП

  • В 2012 году на базе лаборатории электронной и зондовой микроскопии научно-образовательного центра «Нанотехнологии» в рамках Программы развития инновационной инфраструктуры вуза с целью эффективного использования уникального оборудования, активизации междисциплинарных научных исследований был создан ЦКП «Анализ наноматериалов и метрология» (приказ ректора от 25.07.2012 г. № 520). Директором ЦКП был назначен Г.П. Ласкин.
  • В 2013 году ЦКП «Анализ наноматериалов и метрология» был преобразован в ЦКП «Функциональные и обучаемые наноматериалы» приказом ректора от 14.10.2013 г. № 473. Директором ЦКП назначен доктор физ.-мат. наук, профессор С.Ю. Удовиченко

Приборный парк ЦКП 

НТК «НАНОФАБ-100», который имеет модульную технологически связанную структуру и рассчитан на работу с подложками диаметром до 100 мм. В состав НТК входят следующие функциональные модули:
  1. сверхвысоковакуумный радиальный транспортный модуль (РТМ);
  2. модуль загрузки и хранения образцов; 
  • сверхвысоковакуумный модуль поворота и передачи образцов; 
  • сверхвысоковакуумный имплантационный модуль фокусированных ионных пучков (ФИП ИМП);
Для изучения и контроля обработанного приповерхностного слоя закуплено и установлено уникальное оборудование: 
  • сканирующий зондовый микроскоп "Интегра-Аура",
  • микроскоп "Интегра-прима" 
  • учебная лаборатория "NanoEducator" с комплектом базовых сканирующих зондовых микроскопов.
В лаборатории ионно-плазменного форматирования работает установка для нанесения пленочного покрытия и ионного легирования УВНИПА 1-001, установка ионного форматирования, установка легирования труб. Экспериментальные исследования, проведенные на установке по нанесению пленочных покрытий УВНИПА-1-001, показали возможность создания пленочных покрытий различных металлов, оксидных и нитридных покрытий, а также алмазных пленок толщиной слоя от 20 нм и выше с высокой точностью соблюдения параметров на площади до 100 квадратных сантиметров.

Дополнительное оборудование по созданию масок для плазмохимического травления интегральных микросхем с разрешением топологических рисунков не ниже 20 нм – литографическая приставка к электронному микроскопу JSM-6510LV, пикоамперметр Keithley 6485/E и центрифуга ИНФ-8 для нанесения фоторезиста. Данное оборудование позволяет осуществить полный технологический цикл по производству инновационного продукта в области микроэлектроники с использованием нанотехнологического комплекса НАНОФАБ-100 – интегральных микросхем на основе мемристивных элементов. 

База ЦКП активно используется в учебном процессе. На оборудовании центра ведутся работы в рамках междисциплинарного взаимодействия по исследованию образцов, полученных студентами и магистрантами направлений Химия, Биология, Физика.

Документы ЦКП


 









ЦКП "Функциональные и обучаемые наноматериалы"
на сайте Современная исследовательская инфраструктура Российской Федерации